产品用途
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
PECVD系统配置；
1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（单独购买）
产品特性;
电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
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系统名称
集成型PECVD系统
1200℃小型PECVD系统
系统型号
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控制方式
液晶屏微PLC控制系统
手动
温度
1200℃
加热区长度
200mm
恒温区长度
100mm
温区
单温区
石英管管径
Φ60mm
Φ50mm
额定功率
1.2Kw
2Kw
额定电压
220V
滑动方式及距离
自动滑动;200mm
手动滑动;200mm
温度控制