KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
小型蒸镀仪郑州科探仪器技术资料
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1200W
输出电压电流
电压≤12V 电流≤120A
真空度
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台
可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140mm
蒸发温度调节
≤1800℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
预留真空接口
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）
数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）
分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）